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AQUANOX 2K200攝像機模組清洗劑

AQUANOX 2K200攝像機模組清洗劑

2022-09-03 17:44:50  

kyzen AQUANOX 2K200是一款半水基清洗劑,針對超聲波清洗系統設計,特別適用于清洗攝像機模組,低功率LEDs和各式PCBA的清洗。kyzen AQUANOX 2K200能去除各種焊錫膏和助焊劑,由于kyzen AQUANOX 2K200采用了革命性的材料保護技術(shù), 即使長(cháng)時(shí)間清洗,仍保持優(yōu)良的金屬與材料兼容性。kyzen AQUANOX 2K200是大批量生產(chǎn)的理想選擇,并具有出色的金屬兼容性,尤其是在焊點(diǎn)上。kyzen AQUANOX 2K200能兼容電子組裝制造和清洗工藝中常用的所有材料。

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產(chǎn)品數據
清洗應用: 印刷線(xiàn)路板清洗
主要工藝
工藝: 超聲波
使用濃度: <25%
溫度: <145°F / 63°C
漂洗: 去離子水
干燥: 風(fēng)干
產(chǎn)品特性
PH (10G/L): 9.6
閃點(diǎn): 無(wú)
沸點(diǎn): 225°F / 107°C
水溶性: 完全溶解
VOC, ≤ 300 G/L: 使用濃度 ≤ 53.7%
低VOC (≤ 100 G/L): 使用濃度 ≤ 18%

備注: 以上工藝參數是KYZEN應用試驗室進(jìn)行廣泛測試后的推薦數值, KYZEN的銷(xiāo)售代表會(huì )協(xié)助您優(yōu)化您的工藝參數。


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